半导体、电子设备:国际半导体设备产业界公认的后起之秀
  2019-04-12 13:52:15  来源:
    备受关注的中微半导体,终于在近期公布招股书冲刺科创板。中微2018年销售收入16.39亿元,其中刻蚀设备5.66亿元,表明耕耘10余年的中微半导体的集成电路工艺设备销售规模与北方华创、盛美半导体处于相同数量级别,中微与北方华创、盛美、拓荆、芯源、中科信、上海微等引领着集成电路工艺设备国产化。我们继续强烈推荐半导体设备板块,重点推荐北方华创、精测电子、晶盛机电(300316),推荐关注盛美半导体、长川科技。


国产半导体设备中,中微是与北方华创等携手共进致力于实现集成电路工艺设备国产化的龙头之一。中微成立于2004年,和睿励、安集微电子、盛美半导体、上海微等老牌国产半导体设备制造商一样,诞生于同一个时代,至今已有15年经营历史和技术积淀。2018年,中微收入16亿元,同比增长69%,扣非净利润1.8亿元,同比增长610%。收入结构中,刻蚀设备占比35%左右,达到5.66亿元的销售规模,与北方华创、盛美半导体的集成电路工艺设备销售额基本相当,且相互之间的产品类别互补为主,同为国产集成电路工艺设备龙头。


中微半导体拥有一支豪华的国际化技术团队。公司创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有35年行业经验,是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者,拥有应用材料、泛林半导体等国际一流半导体设备企业研发、管理经验。公司的其他联合创始人、核心技术人员,包括杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士、杨伟先生、李天笑先生等在内的160多位各专业领域专家,大部分在国际半导体设备产业耕耘数十年。


公司具备持续的关键技术创新能力。公司一直以来保持较高的研发投入,2016-2018年研发费用占收入比例49.62%、34%、24.65%。截至2019年2月末,公司申请了的发明专利1,038项,我们估计等离子刻蚀专利占比80%,MOCVD专利占比20%,且海外发明专利占比为45%。电容性等离子体刻蚀设备中,中微开创性地推出甚高频去耦合等离体子刻蚀技术;电感性等离子体源方面,中微创造性地设计新型电感线圈架构;MOCVD设备方面,中微设计精确定位的托盘锁定机制。


中微成为台积电先进制程刻蚀设备供应商之一,刻蚀技术得到国内外市场高度认可。2016-2018年,五大客户收入占比85.74%、74.52%、60.55%,每年前五名客户包括台积电、中芯国际、海力士、华力微电子、联华电子、长江存储、三安光电(600703)、华灿光电(300323)、乾照光电(300102)等。中微刻蚀设备成功进入台积电7nm制程后,中微5nm刻蚀机也通过台积电认证,与国际刻蚀设备供应商应用材料、Lam、TEL、日立科技直接竞争。


中微先后获得大基金和02专项重点支持。在公司股东中,国家集成电路大基金通过巽鑫投资间接持股中微19.39%的股份。公司先后承担了五个国家科技发展重大专项研发项目,已顺利完成四个等离子体刻蚀设备的开发和产业化项目,目前正在执行的第五个研发项目已提前两年达到预定技术指标。


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